Если металлизируют детали, не выделяющие большого количества газа, можно обойтись и без ловушки, но необходимо иметь газобалластный насос. Для металлизации пластмасс, выделяющих большое количество газов (полиинилхлорид, целлидор, плексигум) и содержащих эластомеры или растворители, успешно применяют и другой метод. Он заключается в том, что перед металлизацией изделия покрывают лаком (распылением либо погружением в жидкость).

После сушки изделия из пластмассы или металла выделяют очень мало газов и полностью уплотняется. Лак заполняет все поры поверхности, и наносимый на лак металлический слой получается зеркально гадким и блестящим. Он прикрепляется с лакированной поверхностью более прочно, чем с самим изделием. Многократное нанесение высокосортных лаков распылением и погружением позволяет получить очень гладкую поверхность металлических изделий, сравнимую с механически обработанной или электрополированной поверхностью.

Машиностроительный завод Веролме (Голландия) выпускает промышленные установки для металлизации в высоком вакууме текстиля, бумаги, поливинилхлорида. На металлизируемый материал, проходящий вдоль источника пара на ленточном конвейере, наносится тонкий слой металла (толщиной 10^-4мм). Материал проходит через вакуумное пространство, в котором алюминиевая проволока испаряется в результате нагрева. Металлизированная бумага и термопластичная пленка заменяют более дорогую и более тяжелую металлическую фольгу. Металлизированная ткань, применяемая для занавесей и для облицовки, защищает здания зимой от холода, а летом от жары(благодаря отражению тепла). Летом металлизированный материал,используемый для занавесей, отражает более 70% солнечного света, А зимой же, наоборот, он сберегает до 20% стоимости нагрева благодаря обратному отражению. На рис. 149 показана схема установки Веролме типа VSB-2.

Фирма Лейбольд (ФРГ) выпускает установки для металлизации пластмасс, применяет покрытия с высокой отражательной способностью, производит металлизацию таких веществ, как полиэстер и полиолефин. Фирма Ульвак (Япония) выпускает полунепрерывные вакуумные установки для металтации пластмассовых пленок, бумаги, а также производства металлизированных нитей, упаковочных материалов и т. п. Установки типа ESHW2 Применяют для пленки шириной 500, 1000 и 1500 мм.

Чрезвычайно широкое развитие получает метод напыления при производстве тонких ферромагнитных пленок толщиной от десятков до тысяч ангстрем. Магнитные свойства таких пленок имеют ряд особенностей по сравнению с магнитными свойствами массивных образцов из тех же веществ. Их применяют в качестве запоминающих и логических элементов вычислительных машин, для высокочастотных магнитных усилителей, параметронов, в технике СВЧ. По сравнению с другими магнитными элементами, применяемыми для этих целей, преимущества пленок заключаются в большем быстродействии, меньшем потреблении энергии и меньшем занимаемом объеме. Область их применения получила название микроэлектроники.

При изготовлении сложных электронных схем напылением в вакууме наряду с пассивными элементами (сопротивлениями, конденсаторами) применяют и полупроводниковые элементы. У тонких пленок полупроводниковых веществ отмечена очень высокая подвижность электронов; поэтому при

напылении с целью получения сложных схем следует обеспечить высокую степень чистоты полупроводниковых элементов, а для этого нужно увеличить вакуум. Если определенная примесь инертного газа не играет заметной роли, то примесь такого газа, как кислород, может резко изменить сопротивление пленки. В первую очередь поэтому следует добиваться высокого вакуума по тому газу, который отрицательно влияет на процесс, и снизить его парциальное давление до необходимого минимума.

Что касается средств, применяемых для создания вакуума в установках напыления, то в случае их периодической работы важно получить предельное давление в системе возможно быстрее. Нужно также периодически работающую установку конструировать так, чтобы ее можно было быстро и удобно прогреть. В некоторых случаях целесообразно применение геттерного насоса, так как при нагреве испарителей во время напыления выделяется дополнительное количество газа, которое может вызвать нежелательное повышение давления. До начала напыления внутреннюю поверхность установки покрывают слоем титана, который в процессе напыления и служит геттерным насосом. По некоторым данным, для таких установок не всегда целесообразно применение геттерно-ионных насосов, а наилучшими средствами откачки считают диффузионные насосы с лабиринтными отражателями или молекулярные насосы. Возможно также применение конденсационных насосов.